氮化硅晶须
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用途与制备
高温陶瓷复合材料; 特殊金属复合材料; 绝热材料
硅直接氮化法 3Si+2N2→SbN4 二氧化硅碳热还原法以高纯度二氧化硅及其他含硅为原料,用含有过渡金属(Fe、Co、Ni或Cr)或其化合物作为催化剂,加人含碳原料进行混合后,将得到的混合物在含50%氢气的氮气气氛中,于1300~1600℃温度下加热进行反应。其 3SiO2+6C+2N2→Si3N4+6CO然后在空气中,在600~800℃温度下煅烧除去过剩的碳,得到高纯度的氮化硅晶须。 气相合成法卤化硅与氨气相合成,得到氮化硅晶须。 3SiC14+4NH3→Si3N4+12HCl 亚胺热分解法卤化硅和氨在含有氢气的氮气气氛中,在1300~1400℃下进行热分解,其 SiCl4+2NH3→Si(NH)2+4HCl 3Si(NH)2→Si3N4+2NH3 最终得到氮化硅晶须。 以硅藻土为原料,将原料置于1000~1200℃温度下进行烧结,然后放入碳制容器,在焙烧炉内,于1000~1450℃的氮-氨气氛下加热24 h,在容器外壁生长出直径0.1~2 μm,长度大于10 mm的晶须。