溶致液晶高分子聚苯并恶唑
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用途与制备
用于液晶材料等领域,具有抗张强度1.55MPa,抗张模量90MPa,起始分解温度657.3℃的化学性质。
液晶材料
单体合成: 以对羟基苯甲酸甲酯(乙酯)为原料,经两步反应纯化得到单体;聚苯并[口恶]唑ABPBO合成: 3-氨基-4-羟基苯甲酸的盐酸盐在引发剂引发下聚合,脱去盐酸,再在五氯化磷存在下,于90-190℃反应得到聚合物;聚合物溶液可通过推膜在水溶液中凝聚得到取向薄膜,或采用干喷湿纺丝技术得到淡黄色聚合物纤维,经水浴洗涤、张力下干燥和热处理。