化学合成。
化学合成
合成路线 1(1. 合成:40311-13-5)
产率:97%
合成条件:With [2,2]bipyridinyl; carbon monoxide In toluene
实验步骤:实施例5合成6-氟-2-甲基吲哚在内容积为100mL的不锈钢高压釜中,1.0g(5.1mmol)4-氟-2-硝基苯基丙酮,130mg(4mol%)三羰基三钌,397 将1mg 2,2'-联吡啶和40g甲苯置于氮气氛下,与实施例4同样地进行反应。反应后,用液相色谱法对反应溶液进行定量分析。 结果证实,4-氟-2-硝基苯基丙酮的转化率为100%,形成0.65g(产率97.0%)的6-氟-2-甲基吲哚。
参考文献:
- [1] Patent: US2007/83053, 2007, A1. Location in patent: Page/Page column 7 [2] Patent: US2007/83053, 2007, A1. Location in patent: Page/Page column 6 [3] Patent: US2007/83053, 2007, A1. Location in patent: Page/Page column 6 [4] Patent: US2007/83053, 2007, A1. Location in patent: Page/Page column 6 [5] Organic and Biomolecular Chemistry, 2016, vol. 14, # 44, p. 10511 - 10515 [6] Patent: US2007/83053, 2007, A1. Location in patent: Page/Page column 6 [7] Patent: CN106631968, 2017, A. Location in patent: Paragraph 0053-0056; 0058 [8] Patent: US2007/83053, 2007, A1. Location in patent: Page/Page column 7 [9] Patent: WO2009/49113, 2009, A1. Location in patent: Page/Page column 22 [10] Patent: US2007/83053, 2007, A1. Location in patent: Page/Page column 7 [11] Patent: WO2006/57354, 2006, A1. Location in patent: Page/Page column 18-19; 21
合成路线 2(2. 合成:40311-13-5)
产率:70%
合成条件:With hydrogen In butan-1-ol at 100℃; for 24 h;
实验步骤:对比实施例2合成6-氟-2-甲基吲哚在反应烧瓶中,其内部的气氛用氮气,1.00g(5.1mmol)4-氟-2-硝基苯基丙酮,10g 1-丁醇和0.05g代替。由活性炭负载的5%钯[由NE制造放置CHEMCAT CORPORATION(50%含水产品),在常压和100℃下向其中供应氢气,并使所得混合物反应24小时。用液相色谱法确认4-氟-2-硝基苯基丙酮消失后,用氮气置换气氛,用硅藻土滤除催化剂。用液相色谱法对反应溶液进行定量分析,结果证实形成了0.53g(产率70%)的6-氟-2-甲基吲哚,并且进一步形成了6-氟-1-羟基 - 形成2-甲基吲哚和6-氟-2-甲基二氢吲哚,收率分别为3%和25%。
参考文献:
- [1] Patent: US2007/83053, 2007, A1. Location in patent: Page/Page column 9 [2] Patent: US2007/83053, 2007, A1. Location in patent: Page/Page column 9
合成路线 3(3. 合成:40311-13-5)
产率:1.1 g
合成条件:With copper(l) iodide In N,N-dimethyl-formamide for 1 h; Reflux
实验步骤:步骤2a:6-二氟-2-甲基吲哚将43mg碘化铜(I)加入到1.7g 5-二氟-2-丙-1-炔基苯胺在50ml DMF中的溶液中。 将反应介质回流1小时。冷却后,过滤反应介质。 减压浓缩滤液。 得到的粗残余物在硅胶柱上纯化,洗脱液:90/10环己烷/乙酸乙酯,得到1.1g 6-氟-2-甲基吲哚,其特征如下:质谱法:方法保留时间 Tr(min)= 0.89; [M + H] +:m / z 150
参考文献:
- [1] Patent: US2013/274253, 2013, A1. Location in patent: Paragraph 1393-1398